（７）残差静補正
ＮＭＯ補正後，ＣＭＰ重合によるＳＮ比向上の効果を高めるため，残差静補正を行う。残差静補正は，先の「（４）静補正」で示した補正の補完的な位置づけで，短波長の標高差，表層の層厚，および表層の速度の変化などに起因する影響を取り除く処理である。